WEKO3
アイテム
In-plane refractive-index anisotropy in porous silicon layers induced by polarized illumination during electrochemical etching
http://hdl.handle.net/10132/1796
http://hdl.handle.net/10132/1796e937c71d-b504-4d71-98db-e295b51814cf
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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koyama_AIP_JAP2004.pdf (99.2 kB)
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2009-01-07 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | In-plane refractive-index anisotropy in porous silicon layers induced by polarized illumination during electrochemical etching | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
Hideki, Koyama
× Hideki, Koyama |
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| 書誌情報 |
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 巻 96, 号 7, p. 3716-3720, 発行日 2004-10-01 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 00218979 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | 10.1063/1.1784613 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | Copyright 2004 American Institute of Physics | |||||
| フォーマット | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | American Institute of Physics | |||||
| 関係URI | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | http://jap.aip.org/ | |||||
| 関連名称 | http://jap.aip.org/ | |||||
